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當前位置：首頁 / 產(chǎn)品中心 / PTFE聚四氟乙烯系列產(chǎn)品 / 四氟方槽 / RNKW-PTFESG聚四氟乙烯酸缸帶蓋15L清洗槽晶圓清洗用
產(chǎn)品簡介
聚四氟乙烯酸缸帶蓋15L清洗槽晶圓清洗用聚四氟乙烯方槽，圓桶主要用于半導體新材料行業(yè)存儲酸堿溶劑，具有耐腐蝕性，本底值低的特性，可用作清洗溶劑，我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽，圓桶，一體成型，耐用無泄漏風險，可根據(jù)客戶要求增加接頭，放料閥等配件，尺寸可定制，配套大型設備。四氟桶規(guī)格：1L-50L，支持加工定制
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2022-09-242022-09-202024-08-142022-07-14| 品牌 | 南京瑞尼克 | 應用領域 | 化工,石油,能源,電子,制藥 |
|---|---|---|---|
| 耐酸堿 | 強酸強堿有機溶劑 | 耐高溫 | 260℃ |
| 支持定制 | 尺寸款式可靈活加工，可以增加下料閥，蓋子等 |
聚四氟乙烯酸缸帶蓋15L清洗槽晶圓清洗用
聚四氟乙烯酸洗一體成型槽PTFE無焊接水槽耐腐蝕酸洗槽高溫 四氟槽
ptfe內(nèi)外一體槽子主要用途，用于濕法研磨設備，HF 和HNO3的混合（定量混合），反應液內(nèi)部循環(huán)，及產(chǎn)品(Wafer)的蝕刻.其中，圓形槽體，用于HF化學品和水的混合配比，、HNO3和水的混合配比，并可以根據(jù)其配置的液位傳感器，進行化學品混合配比聚四氟乙烯（PTFE）酸槽憑借其優(yōu)異的化學穩(wěn)定性、耐高溫性和高純度特性，在半導體行業(yè)中扮演著至關重要的角色，主要用于以下幾個方面：
1. 濕法清洗工藝:
晶圓清洗: 在半導體制造過程中，晶圓需要經(jīng)過多次清洗以去除表面的污染物、顆粒和金屬雜質(zhì)。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝各種清洗液，如硫酸、氫氟酸、氨水等，對晶圓進行高效清洗。
設備零部件清洗: 半導體生產(chǎn)設備中的零部件也需要定期清洗以去除沉積的雜質(zhì)和殘留物。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝清洗液，對零部件進行浸泡或循環(huán)清洗。
2. 濕法刻蝕工藝:
晶圓刻蝕: 在半導體制造過程中，需要利用化學溶液對晶圓表面進行選擇性刻蝕，以形成所需的電路圖案。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝刻蝕液，如氫氟酸、硝酸、磷酸等，對晶圓進行精確刻蝕。
材料刻蝕: 一些半導體材料，如硅、二氧化硅等，也需要通過濕法刻蝕工藝進行加工。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝相應的刻蝕液，對材料進行刻蝕。
3. 化學機械拋光 (CMP):
拋光液盛放: CMP 是半導體制造中用于平坦化晶圓表面的關鍵工藝。聚四氟乙烯酸槽可用于盛放 CMP 拋光液，為拋光過程提供穩(wěn)定的化學環(huán)境。
聚四氟乙烯方槽，圓桶主要用于半導體新材料行業(yè)存儲酸堿溶劑，具有耐腐蝕性，本底值低的特性，可用作清洗溶劑，我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽，圓桶，一體成型，耐用無泄漏風險，可根據(jù)客戶要求增加接頭，放料閥等配件，尺寸可定制，配套大型設備。
四氟桶規(guī)格：1L-50L，支持加工定制
貨號;RNKW-PTFEYT
四氟方槽常用尺寸：
300*200*50mm
300*200*100mm
300*200*150mm
300*200*200mm
400*300*50mm
400*300*100mm
400*300*200mm
400*300*300mm
貨號：RNKW-PTFEFC
產(chǎn)品特性
1.外觀純白色。
2.耐高低溫性：可使用溫度-200℃～＋250℃。
3.耐腐蝕：耐強酸、強堿、王水和各種有機溶劑，且無溶出、吸附和析出現(xiàn)象。
4.防污染：金屬元素空白值低。
公司研發(fā)生產(chǎn)PFA系列，F(xiàn)EP系列，PTFE系列耗材
PFA系列試劑瓶、洗瓶、洗氣瓶、容量瓶、燒瓶、燒杯、量杯、量筒等器皿
FEP系列試劑瓶、洗瓶、洗氣瓶、容量瓶、燒杯等器皿
聚四氟乙烯系列試劑瓶、消解瓶、燒杯、坩堝、容量瓶、燒瓶等器皿
各種規(guī)格定制燒瓶、鑷子、鏟子、藥匙、消解管、接頭、閥門
可根據(jù)客戶要求進行定制加工各種聚四氟乙烯產(chǎn)品、PFA定制焊接件
聚四氟乙烯酸缸帶蓋15L清洗槽晶圓清洗用
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025-58994772
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